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反應設備、清洗設備
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納米(mi)(mi)拋(pao)光(guang)(guang)液分散(san)設備(bei):主(zhu)要(yao)用于CMP納米(mi)(mi)拋(pao)光(guang)(guang)液的分散(san)和(he)各種微(wei)納米(mi)(mi)材(cai)料、新能源材(cai)料、無機阻燃(ran)劑等的破損(sun)、分散(san)、分級(ji)、改(gai)性(xing)等。 本產品適(shi)用于實(shi)驗(yan)室，科研院所，高校化學實(shi)驗(yan)，中試； 可(ke)按客需定制(zhi)量產設備(bei)。 特(te)點： 顆(ke)粒更細，達(da)納米(mi)(mi)級(ji)；粒徑(jing)分布(bu)均(jun)勻；形貌(mao)一致(zhi)性(xing)高。
研磨分散(san)機主要用(yong)于一(yi)維、二(er)(er)維微納(na)米(mi)材料(liao)的分散(san)，如一(yi)維的碳納(na)米(mi)管、銀納(na)米(mi)線、二(er)(er)維的石墨烯(xi)、云母片、片狀石墨等。
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